中心设备
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1.无需掩模曝光,激光直写
2.最大支持8''基底,支持GDSii、DXF、BMP等文件格式
3.光刻精度高,最小结构尺寸0.5μm,自动聚焦对准
4.扫描式曝光、支持灰度曝光
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